FinAl 9222专门用于抛光C面晶片的纳米氧化铝抛光液。FinAl 9222具有比氧化硅抛光液横跨四倍以上的卓越去除率,兼具快速抛光和小于3埃Ra的优异外貌光洁度,可让晶片制造商获得更低的总拥有本钱。更多信息可会见:https://www.surfaceconditioning.saint-gobain.com/products/final-9222